Research Topics

• Isotropic Si etch process using metal catalyst

• Alternatives of semiconductor dry etch process 

• Cost-effective process by wet-solution process

• 수용액 기반의 습식 실리콘 식각 공정으로, 촉매를 기반으로 식각하여 비등방식각이 가능

• 실리콘 나노/마이크로구조체 제작 및 이를 활용한 소자 개발

• Isotropic Si etch process using metal catalyst

• Alternatives of semiconductor dry etch process 

• Cost-effective process by wet-solution process

• 수용액 기반의 습식 실리콘 식각 공정으로, 촉매를 기반으로 식각하여 비등방식각이 가능

• 실리콘 나노/마이크로구조체 제작 및 이를 활용한 소자 개발

TBD

• 리튬이온배터리의 한계점인 부피팽창을 억제할 수 있는 음극 활물질 개발 목표

• 마이크로에멀젼 기반의 습식 합성을 통해 주름구조의 SiOx 입자 구현 가능

• 마그네슘 환원을 통해 주름구조를 유지하고, 탄소코팅을 통해 전기전도성과 구조 안정성 확보

• 주름진 구조를 통해 부피팽창을 완화하여 높은 초기용량과 장기 사이클 안정성 확인

• 수계 아연 이차전지(AZIB)의 고성능화를 위해 Binder-Free 전극을 초음파 스프레이 코팅 공정을 이용해 제조

• 초음파에 의한 공동현상을 이용하며, 고에너지가 인가되어 활물질과 도전재 간의 화학적 결합을 유도

• 이를 통해 바인더가 필요 없는 자체 결합 구조를 형성

• 또한 바인더 제거로 인해 에너지 밀도 향상 및 공정 단순화를 통한 원가 절감 기대 가능