Isotropic Si etch process using metal catalyst
Alternatives of semiconductor dry etch process
Cost-effective process by wet-solution process
수용액 기반의 습식 실리콘 식각 공정으로, 촉매를 기반으로 식각하여 비등방식각이 가능
실리콘 나노/마이크로구조체 제작 및 이를 활용한 소자 개발
Isotropic Si etch process using metal catalyst
Alternatives of semiconductor dry etch process
Cost-effective process by wet-solution process
수용액 기반의 습식 실리콘 식각 공정으로, 촉매를 기반으로 식각하여 비등방식각이 가능
실리콘 나노/마이크로구조체 제작 및 이를 활용한 소자 개발
TBD
TBD
TBD